Alexandre Geissler, « Best Paper Award for Young Researchers »

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Alexandre Geissler, «<small class="fine"> </small>Best Paper Award for Young Researchers<small class="fine"> </small>»

Alexandre Geissler, doctorant à l’Institut de Sciences des Matériaux de Mulhouse (IS2M - CNRS/ Université de Haute-Alscace, Mulhouse)) au sein de l’équipe surfaces et interfaces complexes-adhésion dirigée par Marie-France Vallat, s’est vu attribuer le Best Award Paper for Young Researchers lors du 19th international Symposium on Plasma Chemistry –ISPC 19.

Ce colloque, qui s’est tenu à Bochum (Allemagne) du 24 au 31 Juillet 2009, réunit tous les deux ans près de 700 chercheurs et met en relief les avancées significatives dans le domaine des plasmas.

Ce prix distingue le travail de thèse d’Alexandre qui porte sur le développement de nouveaux types de matériaux adaptatifs, sensibles à l’élongation, pour des applications potentielles dans le domaine des bio-sensors, du biomédical (relargage de principes actifs, pansements…).

Ce travail est le résultat d’une collaboration fructueuse entre l’IS2M et des laboratoires strasbourgeois : l’Institut Charles Sadron (Pierre Schaaf – codirecteur de la thèse) et l’INSERM (Jean-Claude Voegel et Joseph Hemmerlé). La stratégie développée consiste en la fonctionnalisation d’un support élastique de polydiméthylsiloxane par polymérisation plasma. La densité des groupements réactifs et les propriétés de surface de ces matériaux sont contrôlables en fonction du taux d’élongation. Ce concept a été appliqué dans le cadre de la thèse afin d’induire l’adsorption de protéines sur le support sous l’effet d’une sollicitation mécanique. Ces travaux sont dans la continuité des recherches développées par Vincent Roucoules (co-encadrant du travail d’Alexandre et enseignant-chercheur à l’UHA) et visant à concevoir de nouveaux matériaux adaptatifs en utilisant la chimie du plasma.

Cet enseignant –chercheur avait également été récompensé lors du 18th International Symposium on Plasma Chemistry –ISPC 18 en 2007 au Japon.

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